共享设备和软件
CMI为学生和教员、研究人员以及其他学术机构和行业合作伙伴提供了访问UB大量共享资源的途径。在这里你会发现全体教职员专业知识，以及获得经济高效的科学和工程设备和仪器套件。
下面概述了一些可用的某些共享资源的概述：
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薄膜沉积
UB在薄膜沉积方面的专业知识从微电子设备上接触层的金属到可用于在基板上沉积保形、均匀薄膜的薄膜涂层方法等等。
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原子层沉积Ultratech/Cambridge Nanotech Savannah S100
UltraTech / Cambridge Nanotech Savannah S100原子层沉积系统使原子层薄金属/氧化膜沉积在超高纵横比基材上。这种精密薄膜涂层方法可用于在具有大于2000：1的宽高比的基材上沉积在基材上的共形均匀薄膜。通过这种技术可以实现高质量和非常可控的薄膜沉积。
BOC-Edwards Auto 500电子束蒸发器是一种用于薄金属/氧化物沉积的前置加载系统。金属薄膜可以沉积成接触层或微电子器件的电介质
掠角沉积电子束蒸发器（GLAD）–Kurt J。莱斯克公司AXXIS
库尔特J。Lesker-AXXIS电子束蒸发与掠角沉积（GLAD）使电子束沉积金属薄膜的接触层微电子器件。
带热蒸发源的电子束蒸发器–BOC Edwards Auto 500
BOC-Edwards Auto-500电子束蒸发系统可以沉积高熔点的超纯材料薄膜，获得快速的沉积速率。它还具有两个热蒸发源以及室内的电子束源。
分子束外延（MBE）系统用于从超高真空环境中从II族（Zn，Mg）和vi（TE，O）元素源的半导体生长半导体。掺杂剂包括（n，b，ga，和AS）。该系统具有六个固体源活力细胞和2个射频等离子体气体源。这使得半导体，简单和复杂的异质结构和纳米结构具有适当的掺杂剂待制备。
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统Troion Technology Orion
TRION技术猎户座等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统能够在多种衬底上薄沉积二氧化硅（SiO2）绝缘薄膜。
DNTON VACUUM DV502A热沉积系统使得能够热沉积金属用于微电子器件上的接触层。
蚀刻
UB的蚀刻设备是为半导体和微电子器件或基板设计的，可以为使用氟和氧基化学物质的单晶片、模具或零件提供等离子蚀刻能力。
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蚀刻机-电感耦合等离子体反应离子（ICP-RIE）三极管技术Oracle III
Trion Technology Oracle III干式等离子刻蚀机（ICP/RIE）是为半导体和微电子设备或基板设计的。
蚀刻器 - 电感耦合等离子体反应离子 - （ICP-RIE）Troion Technology Phantom III
Trion Phantom III干蚀刻器设计用于使用氟和基于基于氧气的单个晶片，模具或零件供应最先进的等离子体蚀刻能力。它具有RIE和ICP RF源。
Samco RIE-1C反应离子蚀刻机可对半导体或微电子器件和基板进行干化学蚀刻。
托尔国际AT3反应离子刻蚀机能够对半导体或微电子器件和基板进行干化学刻蚀。
计量学
从应用分析和系统规范来看，UB的计量设备为贵公司提供了多种微观结构解决方案。
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带电子束光刻附件的场发射扫描电子显微镜（FESEM）-JEOL JSM 6500F
JEOL JSM-6500F是一种场发射扫描电子显微镜（FESEM）和电子束光刻附件，以及纳米图形生成系统（NPGS）。它提供非常小的无机和有机表面结构的高分辨率图像。NPGS附件可用于半导体加工的光刻应用。该系统通常用于创建特征小于50 nm的结构。通过充分的工艺优化，可以获得更高的分辨率。
带IXRF能量色散X射线光谱仪（EDS）的场发射扫描电子显微镜（FESEM）-日立S4000
日立S4000场发射扫描电子显微镜（FESEM）和IXRF能量色散X射线光谱仪（EDS）是一种快速简便的冷场发射扫描电子显微镜。适用于显微结构和主、次元素分析。
带牛津能量色散X射线光谱仪（EDS）的场发射扫描电子显微镜（FESEM）–日立Su70
Hitachi SU70场发射扫描电子显微镜（FESEM）与牛津能量分散X射线光谱仪（EDS）是顶级研究级SEM，在低kV的表面成像和高kV的高kV下进行优异的性能。适用于微观结构和主要和次要元素分析。
聚焦离子束扫描电子显微镜（FIB-SEM）-卡尔蔡司Auriga横梁
Carl Zeiss Auriga Crossbeam聚焦离子束电子显微镜是一种最先进的先进的扫描电子显微镜，具有高分辨率聚焦离子束铣削，可实现许多无机和有机样品的摄影，化学和结构分析以及通过FIB蚀刻或FIB驱动的金属和绝缘剂的纳米级图案化来自气相前体。该系统还包括TEM提升，牛津EDS系统和Avizo成像接口/用于3D重建的软件。
高分辨率透射电子显微镜-JEOL JEM 2010 HRTEM
JEOL-JEM 2010是一款高分辨率电子显微镜，加速电压为200KV，点分辨率为0.19nm。TEM通过电子衍射提供亮场或暗场的形貌图像和相应的晶体结构。Gatan CCD相机和相关的数字显微图像软件提供了改进的格点分辨率HRTEM功能和各种自动测量功能，包括实时视频记录。还提供样品制备工具（线锯、压痕机、抛光机等）。HRTEM工作人员将提供电子显微镜技术方面的帮助和培训，使研究小组能够实现其研究目标。
Alessi CPS-7089-17四点探针可用于测量薄膜厚度，但通常用于测量浅层（由于外延、离子注入、扩散或溅射）的片电阻和裸晶片的体电阻率。
光谱法
UB的光谱设备能够识别任何形式的化学物质，并允许对液体和固体样品进行微量元素杂质分析。
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电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-ES）Thermo Scientific iCAP 6000
Thermo Scientific iCAP 6000 ICP发射光谱仪支持电感耦合等离子体分析。光谱仪可以对液体和固体样品进行微量元素杂质分析。
拉曼光谱仪系统（便携式）–InPhotonics InPhotoe
InPhotonics InPhototeTM便携式拉曼光谱仪可用于在现场或实验室快速鉴定化学品或有机化合物。这是一个高质量的拉曼光谱系统在一个坚固的，便携式的包，配备了法医材料数据库。大多数样品可以通过包装材料（即玻璃和塑料）进行测量。它能够识别任何形式的化学品（例如固体、液体、泥浆）。湿样或水基溶液不会造成额外的识别困难。
Renishaw Invia拉曼显微镜可以有效地提供用于化学成分和结构分析的拉曼光谱。
热处理和分析
如果您需要弥漫或退火样本，UB为您提供了正确的热处理设备，包括高温材料测试，分析等。
查看热处理和分析设备
Thermo Electron Corporation的Lindberg / Blue M™管炉是一种高温空气或惰性气氛3区炉。可用于扩散或退火样品。
快速热退火（RTA）真空炉 - ULVAC技术MILA 3000-P-N
Ulvac Technology MILA 3000快速热退火（RTA）真空炉是一种用于高温材料测试和分析的可编程桌面炉。它可以使用带有可编程数字温度控制器、石英玻璃室和气体控制器的红外金像炉，在不到24秒内将样品加热到1200℃。
差示扫描量热计（DSC） - TA Instruments DSC Q20
TA Instruments DSC Q20差示扫描量热仪（DSC）允许测量样品加热至高温时的不同热流。
热重分析仪（TGA）和差示扫描量热计（DSC） - TA Instruments DSC SDT Q600
TA Instruments DSC SDT Q600热重度分析仪（TGA）和差示扫描量热计（DSC）在与环境中的相同样品上同时测量重量变化（TGA）和真正的差分热流（DSC），从环境温度到1,500˚C。
X射线衍射与荧光
UB的x射线衍射和荧光设备分析粉末、固体和薄膜样品，能够识别物质中的元素并量化存在的元素数量。
查看X射线衍射和荧光设备
Rigaku Ultima IV是一个基本的XRD系统，用于分析粉末、固体和薄膜样品。它提供了材料的晶体结构，并包括一个材料数据库。
Rigaku Ultima IV是一个基本的XRD系统，用于分析粉末、固体和薄膜样品。它提供了材料的晶体结构，并包括一个材料数据库。
X射线荧光（XRF）光谱仪（便携式）–Innov–X Alpha 2
InnoIn-X Alpha 2便携式X射线荧光（PXRF）光谱仪允许在现场或大型标本中进行分析。它用于所选元素组的金属合金测定或痕量元素分析。XRF光谱法用于鉴定物质中的元素并量化存在的这些元素的量。在不同的操作模式下，便携式XRF可以返回主要，次要和跟踪元素的结果。
显微镜
UB的显微镜设备能够进行纳米级表面形貌和形貌测量、无机和有机表面结构的高分辨率图像、主要和次要元素分析等。
查看显微镜设备
原子力显微镜系统-带ScanAsyst的Bruker尺寸图标
原子力显微镜系统 - 具有扫描探针显微镜的Bruker尺寸图标，用于扫描探针显微镜，其能够通过在样品表面上扫描尖锐的探针来产生高分辨率，三维图像的一系列不同表面类型的纳米级表面形貌和形态测量。
场发射扫描电子显微镜（FESEM）w/电子束光刻附件-JEOLJSM-6500F
JEOL JSM-6500F是一种场发射扫描电子显微镜（FESEM）和电子束光刻附件，以及纳米图形生成系统（NPGS）。它提供非常小的无机和有机表面结构的高分辨率图像。NPGS附件可用于半导体加工的光刻应用。该系统通常用于创建特征小于50 nm的结构。通过充分的工艺优化，可以获得更高的分辨率。
带IXRF能量色散X射线光谱仪（EDS）的场发射扫描电子显微镜（FESEM）-日立S4000
日立S4000场发射扫描电子显微镜（FESEM）和IXRF能量色散X射线光谱仪（EDS）是一种快速简便的冷场发射扫描电子显微镜。适用于显微结构和主、次元素分析。
带牛津能量色散X射线光谱仪（EDS）的场发射扫描电子显微镜（FESEM）-日立SU70
Hitachi SU70场发射扫描电子显微镜（FESEM）与牛津能量分散X射线光谱仪（EDS）是顶级研究级SEM，在低kV的表面成像和高kV的高kV下进行优异的性能。适用于微观结构和主要和次要元素分析。
聚焦离子束扫描电子显微镜（FIB-SEM）-卡尔蔡司AURIGA横梁
Carl Zeiss Auriga Crossbeam聚焦离子束电子显微镜是一种最先进的先进的扫描电子显微镜，具有高分辨率聚焦离子束铣削，可实现许多无机和有机样品的摄影，化学和结构分析以及通过FIB蚀刻或FIB驱动的金属和绝缘剂的纳米级图案化来自气相前体。该系统还包括TEM提升，牛津EDS系统和Avizo成像接口/用于3D重建的软件。
立体，明亮的场，暗场，偏光引发和数码相机的传输光学。
提供两个立体镜，适用于非常广泛的应用，从日常实验室工作到教育和研究调查。
用于贵金属的SPI-MODULE™溅射涂布机系统（金色）可实现SEM样品所需的一致性细粒质量的超快速沉积薄膜。单位在20秒内涂层高达200A的金。
